蔡司Sigma系列產(chǎn)品將場發(fā)射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）技術(shù)與良好的用戶體驗緊密結(jié)合。利用Sigma直觀的工作流程，可輕松實現(xiàn)成像和分析程序，提高工作效率。您可以在更短的時間內(nèi)采集到更多數(shù)據(jù)。在高分辨率成像方面精益求精——采用低電壓，在1kV或更低電壓下獲得更佳的分辨率和對比度。配合不同探測器的選擇，使Sigma廣泛地適用于您的應(yīng)用：無論是正在開發(fā)的新材料、用于質(zhì)量檢查的顆粒還是生物或地質(zhì)標本，該電鏡可助您研究各種樣品。在極*條件下，利用可變壓力（VP）成像，借助NanoVPlite，即使在低電壓下，也能在非導(dǎo)體上獲得出色的圖像和分析結(jié)果。

蔡司Sigma系列產(chǎn)品帶給您可靠高*的納米分析體驗。Sigma360是一款直觀的場發(fā)射掃描電子顯微鏡（FE-SEM），分析測試平臺可用于成像和分析。出色的EDS幾何學設(shè)計，提供高通量分析，可以實現(xiàn)自動原位實驗。

無論哪種樣品，您總是能獲得精準且可重復(fù)的分析結(jié)果。在低電壓下從敏感的樣品中獲取更豐富的圖像信息。

當今的掃描電子顯微鏡應(yīng)用需要將低著陸能量（稱為低電壓或低加速電壓）下的高分辨率成  像作為標準，因為這對于研究對電子束敏感或非導(dǎo)電的樣品至關(guān)重要。這能讓您獲得真實的  樣品表面信息， 而不受樣品更深層背景信號的干擾。 Gemini 的電子槍和探測系統(tǒng)得到了優(yōu)化， 可實現(xiàn)低電壓和超低電壓條件下的高分辨成像，并增強對比度。在掃描電鏡中，因為傳遞到  樣品上的能量較少，低加速電壓的入射電子束被用于對電子束敏感樣品的成像。同時，低能  量的電子束對樣品的穿透力欠佳。這樣，您便能夠以高分辨率拍攝到敏感樣品上無偽影的表面細節(jié)。

優(yōu)化低加速電壓成像

電子光學畸變會導(dǎo)致分辨率損失， 這種情況更多地出現(xiàn)在低電壓圖像中。按照設(shè)計，  Gemini 1 鏡筒的電子束推進器技術(shù)已經(jīng)能夠提供出色的低加速電壓圖像分辨率。優(yōu)化的孔徑和高分辨 率電子槍模式現(xiàn)在可以進一步優(yōu)化低加速電壓的成像效果。

高分辨率電子槍模式

在高分辨率電子槍模式下，電子束色差降低，從而實現(xiàn)了更小的束斑。在 1 kV 及以下的電壓  下，該模式可提供額外的圖像分辨率。聚光鏡默認設(shè)置為優(yōu)良成像條件（帶優(yōu)化電子束會聚）。 您可以選擇提供一系列電流的優(yōu)化孔徑，同時確保高分辨率。額外的聚光鏡模式可用于優(yōu)化  圖像景深。

檢測器

通常，使用低入射電子束電壓和低電子束探針束流可對敏感材料進行高分辨率成像。當涉及 檢測從樣品中激發(fā)出來的電子時，高效的 Inlens SE 探測器不僅可以提供高分辨率，在探針束 流小于 10 pA 時還可增強對比度。借助智能掃描程序的支持（如漂移校正幀平均） ， 即使在 高分辨率下也能保證對樣品進行穩(wěn)定處理。

高*場發(fā)射掃描電鏡 

ZEISS GeminiSEM 出色的樣品靈活性 利用場發(fā)射掃描電鏡探索未知，滿足亞納米成像、分析和樣品靈活性方面的高要求。該系統(tǒng)可實現(xiàn)高通量分析，同時在低電壓、高速度和高探頭電流條件下提供出色的分辨率。 高圖像質(zhì)量和多功能性 高級成像模式 高效檢測，出色分析  歷經(jīng)25余年完善的蔡司Gemini技術(shù)探測器種類繁多，覆蓋范圍廣。

該系統(tǒng)可實現(xiàn)高通量分析，同時在低電壓、高速度和高探頭電流條件下提供出色的分辨率。其觀察視野開闊，腔體極為寬敞，即使是大型樣品也能輕松檢測。

ZEISS GeminiSEM具有兩個截然相反的EDS端口和共面EDS/EBSD配置，可提供高效的化學成分和晶體取向表征。您可以信賴高速無影映射。

自定義并自動執(zhí)行工作流：如果您需要測試材料的技術(shù)極限，蔡司可為您提供自動原位加熱和機械應(yīng)力實驗室。

應(yīng)用領(lǐng)域一覽

機械、光學和電子元件的失效分析

斷裂分析和金相分析

表面、微觀結(jié)構(gòu)和器件表征

成分和相位分布

雜質(zhì)和夾雜物測定